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英特爾 CTO:前沿晶圓產量最多約翻倍

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2026年10月23日,英特爾 CTO 普什卡·拉納德表示,即使資金充足,全球前沿晶圓產量亦難以提升至現有水平的10倍,最多約可翻倍。他指出,主要限制是半導體供應鏈未能協同擴產,而非單靠興建晶圓廠即可解決。ASML 每年生產的 EUV 光刻機不足100台,設備下單後通常約需18個月交付;設備商及上下游供應商亦須同步擴產,才能提高整體產量。

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10月23日
  1. IT之家
    英特爾 CTO 稱前沿晶圓產量最多可翻倍,AI 算力擴張遭遇供應鏈天花板

    英特爾 CTO 普什卡·拉納德表示,即使資金充足,全球前沿晶圓產量也難以增至 10 倍,較現有水平最多約可翻倍。他指出,限制來自半導體供應鏈協同擴產能力;ASML 每年生產的 EUV 光刻機不足 100 台,設備下單後通常約 18 個月才交付。設備商及上下游供應商須同步擴產,單靠新建晶圓廠不足以大幅提高產量。

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