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IBM Nanostack垂直堆疊晶體管架構

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AI 綜述

2026年10月22日的報道指出,IBM Nanostack 是研究階段的晶體管架構,透過在 0.7 nm 節點垂直堆疊並錯開互補晶體管,以提高晶體管密度。IBM 稱,其密度接近自家較早 2 nm 技術的兩倍;性能最高提升 50% 或顯著改善能效,則屬預測。報道亦説明,0.7 nm 是製程世代標記,並非晶體管部件的實際尺寸。IBM 計劃於 2027 年第一季推出早期研發 PDK;製造成本、散熱管理及設計工具仍是挑戰。

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報道時間線

沿着報道,瞭解事件的不同側面。

10月22日
  1. DEV Community
    IBM Nanostack 垂直堆疊互補晶體管,為晶片縮小開拓另一條路

    IBM 的 Nanostack 是研究階段的晶體管架構,透過在 0.7 nm 節點垂直堆疊並錯開互補晶體管來提高密度。IBM 稱其晶體管密度接近自家較早 2 nm 技術的兩倍,性能最高提升 50% 或顯著改善能效則屬預測;0.7 nm 是製程世代標記,不代表晶體管部件的實際尺寸。IBM 計劃在 2027 年第一季推出早期研發 PDK,但製造成本、散熱管理及設計工具等仍是挑戰。

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