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ASML、佳能、尼康公佈光刻設備擴產及研發計劃

余承东曾称国产EUV可期!光刻机被抢疯了:ASML、佳能、尼康度在扩产

AI 導讀

ASML、佳能及尼康相繼公佈光刻設備擴產或研發安排,ASML客戶對2027年及2028年設備的預訂需求已超出公司現有擴產計劃。ASML計劃明年將低數值孔徑EUV及浸沒式DUV產能各提高30%,佳能明年半導體光刻設備產量最高將接近今年兩倍。尼康則啟動更高精度數字光刻設備專項研發,聚焦先進封裝芯片市場;報道將這輪設備需求增長與AI算力基建及相關芯片需求上升相聯繫。

正文

快科技10月24日消息,一周前,全球光刻机龙头ASML在最新发布的第三季度财报中对外披露,客户针对2027年、2028年的设备预订单需求,已经超过了公司当下的现有扩产计划,不少提前锁定产能的核心客户,甚至已经开始咨询2029年、2030年的远期供货配额。

公司计划明年将低数值孔径EUV和浸没式DUV两类核心光刻机的产能各提高30%,后续还将探索让2027年的产能增幅进一步超过30%。与此同时,ASML已经和所有主要客户完成了新一轮定价谈判,部分市场供应紧俏的关键光刻设备产品将正式提价。

ASML官宣扩产计划之后没多久,另一家海外光刻设备巨头佳能也对外公布了自身的增产规划,明年旗下半导体光刻设备的整体产量最高将接近今年的两倍,全力承接下游溢出的订单。

紧接着尼康也宣布启动更高精度数字光刻设备的专项研发,把后续业务布局的核心方向对准快速增长的先进封装芯片市场,提前布局后摩尔时代的产业增量。

多家头部光刻设备厂商同步拿出激进扩产计划的现状,直接印证了当下全球AI行业的超高景气度。随着全球各地AI算力基础设施建设持续提速,相关AI芯片、算力配套芯片的市场需求迎来爆发式增长,产业链需求向上游传导之后,直接带动光刻机订单量大幅走高,倒逼所有设备厂商集体响应落地提产计划。

此前余承东曾公开透露,目前国内相关领域的科研团队和上下游产业伙伴正在全力攻坚EUV光刻机这类高端核心设备,不过现阶段国内量产先进芯片的主流工艺路径,还是依托已经完全实现国产化的深紫外光刻设备来稳步推进。

行业观察人士指出,这一轮全行业同步启动的扩产周期,本质上是AI算力需求爆发催生的半导体产业扩容窗口,既给国产光刻设备产业腾出了充足的技术迭代空间,也将推动全球半导体制造产能在未来三年内迎来一轮集中释放。

【本文结束】如需转载请务必注明出处:快科技

责任编辑:雪花

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