三大光刻設備商公佈擴產與研發計劃

報道稱，ASML、佳能及尼康相繼公佈光刻設備擴產或研發安排。ASML表示，客戶對2027年及2028年設備的預訂需求已超出公司現有擴產計劃，並計劃明年將低數值孔徑EUV及浸沒式DUV產能各提高30%。佳能計劃明年將半導體光刻設備產量提高至最高接近今年的兩倍。尼康則啟動更高精度數字光刻設備專項研發，聚焦先進封裝晶片市場。報道將這輪設備需求增長與AI算力基建及相關晶片需求上升相聯繫。

AI 根據報道生成 · 2 小時前更新

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