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美光預告 G11 NAND,稱 2027 年下半年量產

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AI 綜述

10月22日10:05,IT之家報道美光預告 G11 NAND,採用晶圓對晶圓鍵合技術,堆疊超過400層,按面積計算的儲存密度約為276層 G9 NAND 的2倍;I/O速率最高可達1.5倍,數據傳輸能耗可減少25%以上,預計2027年下半年產能爬坡。10:19,DoNews報道美光宣佈 G11 NAND,稱產品跳過 G10 世代,並將於2027年下半年量產;報道亦提及美光推出兩類 AI 數據中心級 NAND 設計。早先報道稱2027年下半年產能爬坡,後續報道稱同一時段量產。

AI 根據報道生成 · 47 分鐘前更新

報道時間線

沿着報道,瞭解事件的不同側面。

10月22日
  1. DoNews
    美光宣佈 G11 NAND 閃存:堆疊超 400 層,儲存密度約翻倍

    美光宣佈 G11 NAND 閃存將於2027年下半年量產,跳過 G10 世代並採用晶圓對晶圓鍵合技術。其堆疊超 400 層,儲存密度約為 276 層 G9 的 2 倍,I/O 速率最高提升至 1.5 倍,數據傳輸能耗降低 25% 以上。美光亦推出兩類 AI 數據中心級 NAND 設計。

  2. IT之家
    美光預告 G11 NAND:堆疊逾 400 層、密度約增至 2 倍,2027H2 產能爬坡

    美光預告 G11 NAND 閃存,預計於 2027H2 產能爬坡。新產品採用晶圓對晶圓鍵合技術,堆疊超過 400 層,按面積計算的儲存密度約為現有 276 層 G9 NAND 的 2 倍。其 I/O 速率最高可達 1.5 倍,數據傳輸能耗可減少 25% 以上。

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